特許

J-GLOBAL ID：200903066922807643

陰極カップアセンブリのフィラメント設定高さ調整方法及び装置

発明者： デニス・ジョセフ・ダルペ ,  エレナ・ロジエル・ギーリング ,  ドン・マーク・リプキン
出願人/特許権者： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
代理人 (1件)： 松本 研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-148557
公開番号（公開出願番号）：特開2002-042641
出願日： 2001年05月18日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：

【要約】【課題】 X線管の陰極のフィラメント設定高さを所望のフィラメント設定高さに調整する方法及び装置を提供する。【解決手段】 本方法では、少なくとも1つの孔が貫通しているX線管の陰極カップ(52)を設け、該孔を通してフィラメントのリード(58A〜58D)を所望のフィラメント設定高さより低いフィラメント設定高さまで挿入し、該挿入により生じた実際のフィラメント設定高さを測定し、前記挿入により生じた実際の設定高さを所望のフィラメント設定高さと比較し、実際のフィラメント設定高さと所望のフィラメント設定高さとの差にほぼ等しくなるように調整フィラメント設定高さを決定し、前記フィラメントの前記リードの一端部を調整工具(100、102、106)と接触させ、前記調整工具を前記調整フィラメント設定高さ距離とほぼ等しい距離だけ移動させる。従って、フィラメントは所定のフィラメント設定高さに位置決めされる。

請求項（抜粋）：

X線管の陰極のフィラメント設定高さを所望のフィラメント設定高さに調整する方法において、少なくとも1つの孔が貫通しているX線管の陰極カップ(52)を設ける工程と、少なくとも1つの孔を通してフィラメントのリード(58A〜D)を所望のフィラメント設定高さより低いフィラメント設定高さまで挿入する工程と、前記挿入工程により生じた実際のフィラメント設定高さを測定する工程と、前記挿入工程により生じた実際の設定高さを所望のフィラメント設定高さと比較する工程と、調整フィラメント設定高さが実際のフィラメント設定高さと所望のフィラメント設定高さとの差にほぼ等しくなるように、調整フィラメント設定高さを決定する工程と、前記フィラメントの前記リードの一端部を調整工具(100、102、106)と接触させる工程と、前記調整工具を前記調整フィラメント設定高さ距離とほぼ等しい距離だけ移動させることにより、前記フィラメントを所定のフィラメント設定高さに位置決めする工程と、を有する方法。

IPC (2件)：

H01J 9/02 ,  H01J 35/06

FI (2件)：

H01J 9/02 J ,  H01J 35/06 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

• X線管の陰極カップ用の陰極絶縁装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-276339   出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ