特許
J-GLOBAL ID:200903066926050695

光学記録材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋元 輝雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-541446
公開番号(公開出願番号):特表2004-525394
出願日: 2001年11月09日
公開日(公表日): 2004年08月19日
要約:
光学拡散素子、ホログラムまたは他の光学変更構造がUV光の露光により製造され、当該基材上の層は感光性樹脂の系かであり、それはシリコーン モノマー、プレポリマー、マクロモノマーまたはコモノマーを含み、系のシリコーンモノマーまたは他のモノマーはエチレン性不飽和を含み系は更に光開始剤を含み、それにより系はUV光の露光によるフリーラジカル重合を行うことができ、例えば、光拡散シートまたはホログラムが形成される。光拡散素子形成に用いられる場合、この方法は光学開口マスクを通して系を露光することからなるかまたは光学マスクの介在なしに直接UV光を単純に全面的に露光することからなる。
請求項(抜粋):
液相で重合性の系を基材に塗布し該基材上に層を形成して、該層を電磁放射線に露光して重合を起こさせることからなるシート形態の光拡散素子、ホログラムまたは他の光変更構造を製造する方法。
IPC (8件):
G03H1/02 ,  G02B5/02 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027
FI (9件):
G03H1/02 ,  G02B5/02 A ,  G03F7/004 521 ,  G03F7/029 ,  G03F7/075 501 ,  G03F7/075 511 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/38 511 ,  H01L21/30 515D
Fターム (29件):
2H025AA02 ,  2H025AB14 ,  2H025AC01 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC50 ,  2H025BC77 ,  2H025CA01 ,  2H025CA35 ,  2H025FA12 ,  2H042BA01 ,  2H042BA15 ,  2H042BA19 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096EA02 ,  2H096EA06 ,  2H096FA01 ,  2H097EA01 ,  2K008AA04 ,  2K008BB04 ,  2K008DD13 ,  2K008HH01 ,  2K008HH23 ,  5F046BA09 ,  5F046CB12
引用特許:
審査官引用 (4件)
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