特許
J-GLOBAL ID:200903066993180382
ビーム投射装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三浦 邦夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-043073
公開番号(公開出願番号):特開平8-240429
出願日: 1995年03月02日
公開日(公表日): 1996年09月17日
要約:
【要約】【目的】 所要の距離におけるフォーカシングを簡便に行い得、しかも光軸のずれが生じにくい小型の光学系を備えたビーム投射装置を提供すること。【構成】 半導体レーザ23からの光束をペンタプリズム35で反射させ、ほぼ平行光束のビームとして投射するレーザ測量装置11であって、半導体レーザ23からの光束をほぼ平行光束に変換するコリメートレンズ24;このコリメートレンズ24とペンタプリズム35の間の光路において、このコリメートレンズ24側に位置する負のパワーを持つ第1レンズ群31と、ペンタプリズム35側に位置する正のパワーを持つ第2レンズ群32とを備え、半導体レーザ23からの光束のビーム径を拡大してペンタプリズム35に与えるビームエキスパンダB;及び、このビームエキスパンダBの第1レンズ群31と第2レンズ群32の相対位置を、投射レーザ光束のビームウエスト位置を変化させるべく調整する調整手段を備えたレーザ測量装置。
請求項(抜粋):
光源からの光束を反射手段で反射させ、ほぼ平行光束のビームとして投射するビーム投射装置であって、上記光源からの光束をほぼ平行光束に変換するコリメートレンズ;このコリメートレンズと反射手段の間の光路において、このコリメートレンズ側に位置する負のパワーを持つ第1レンズ群と、反射手段側に位置する正のパワーを持つ第2レンズ群とを備え、上記光源からの光束のビーム径を拡大して上記反射手段に与えるビーム径変換光学系;及び、このビーム径変換光学系の上記第1レンズ群と第2レンズ群の相対位置を、投射ビームのビームウエスト位置を変化させるべく調整する調整手段;を備えていることを特徴とするビーム投射装置。
IPC (3件):
G01C 15/00
, G01C 5/00
, G02B 27/09
FI (3件):
G01C 15/00 L
, G01C 5/00 M
, G02B 27/00 E
引用特許:
審査官引用 (3件)
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回転レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-000810
出願人:株式会社トプコン
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双方向空間光通信装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-297188
出願人:キヤノン株式会社
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レーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-041360
出願人:ホーヤ株式会社
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