特許

J-GLOBAL ID：200903067055304583

磁力を使用する取外し可能なレチクル窓及び支持フレーム

発明者： ダニエル エヌ ガルバート
出願人/特許権者： エーエスエムエル ホールディング ナームローゼ フェンノートシャップ
代理人 (4件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-004701
公開番号（公開出願番号）：特開2004-220025
出願日： 2004年01月09日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

【課題】フォトリソグラフィシステムにおいてレチクルと、ペリクルと、フレームとを容易な形式で結合する。【解決手段】第1及び第2の向き合った面320,322を規定したフレームと、磁気結合を使用して前記第1の向き合った面に係合させられたレチクル104と、磁気結合を使用して前記第2の向き合った面に係合させられたペリクル108とが設けられている。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィシステムにおいてペリクルとレチクルとの間の光学ギャップを維持するための装置において、 第1及び第2の向き合った面を規定したフレームと、 磁気結合を使用して前記第1の向き合った面に係合させられたレチクルと、 磁気結合を使用して前記第2の向き合った面に係合させられたペリクルとが設けられていることを特徴とする、フォトリソグラフィシステムにおいてペリクルとレチクルとの間の光学ギャップを維持するための装置。

IPC (2件)：

G03F1/14 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F1/14 J ,  H01L21/30 502P

Fターム (2件)：

2H095BC36 ,  2H095BC37

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ペリクルフレーム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-094924   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特開昭63-071853