特許
J-GLOBAL ID:200903067093890810
有害ガス除去装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山口 巖
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-260817
公開番号(公開出願番号):特開平8-117560
出願日: 1994年10月26日
公開日(公表日): 1996年05月14日
要約:
【要約】【目的】トンネル用換気設備などに適用する有害ガス除去装置として、光触媒層をケーシング内に組み込んだまま、空気浄化,および光触媒層の洗浄,再生が短時間で効率よく行える実用的価値の高い有害ガス除去装置を提供する。【構成】環境大気中に含まれているNOX ,SOX などの低濃度の大気汚染物質を除去するための有害ガス除去装置であり、二酸化チタンと活性炭との混合物を主成分とする光触媒層に近紫外光を照射して有害ガス成分を光触媒層に吸着,捕捉させるものにおいて、光触媒層4および光源5を組み込んで被処理空気を流す風胴を洗浄水槽を兼ねたケーシング3で構成するとともに、該ケーシングに洗浄水7の貯留タンク8,送水ポンプ9,循環送水路10からなる洗浄部6を付設し、光触媒層の再生時にケーシングに洗浄水を注入,循環送水し、光触媒層に吸着されている大気汚染物質の酸化生成物を除去して触媒機能を回復させる。
請求項(抜粋):
環境大気中に含まれているNOX ,SOX などの低濃度の大気汚染物質を除去するための有害ガス除去装置であり、二酸化チタンと活性炭との混合物を主成分とする光触媒層に近紫外光を照射して有害ガス成分を光触媒層に吸着,捕捉させるものにおいて、光触媒層および光源を組み込んで被処理空気を流す風胴を洗浄水槽を兼ねたケーシングで構成するとともに、光触媒層の再生時に外部より前記ケーシング内に洗浄水を注入して光触媒層に吸着されている大気汚染物質の酸化生成物を除去する洗浄手段を付設したことを特徴とする有害ガス除去装置。
IPC (4件):
B01D 53/94
, B01D 53/86
, B01D 53/86 ZAB
, B01J 21/18 ZAB
FI (4件):
B01D 53/36 101 A
, B01D 53/36 J
, B01D 53/36 K
, B01D 53/36 ZAB D
引用特許:
審査官引用 (2件)
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有害ガス除去装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-278969
出願人:工業技術院長, 富士電機株式会社
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自動車道トンネル用換気設備
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-078368
出願人:工業技術院長, 富士電機株式会社
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