特許
J-GLOBAL ID:200903067138263110
高周波加熱装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
滝本 智之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-065016
公開番号(公開出願番号):特開平11-260543
出願日: 1998年03月16日
公開日(公表日): 1999年09月24日
要約:
【要約】【課題】 本発明は高周波加熱装置に関するもので、マイクロ波を被加熱物に照射するとき、より均一に加熱されることを課題とする。【解決手段】 加熱室14と電磁波発生手段11と被加熱物16と被加熱物支持台17から構成してある。被加熱物支持台17は一部が電磁波吸収体18となっている.従って、被加熱物16だけでなく被加熱物支持台17の電磁波吸収体18にも電磁波が吸収され、その電磁波のエネルギーが被加熱物16の温度上昇の低い箇所へ伝導されることにより、加熱の不均一さを低減することができる。
請求項(抜粋):
導体で囲まれた加熱室と、前記加熱室に電磁波を供給するための電磁波発生手段と、前記電磁波発生手段から放射される電磁波を前記加熱室に導く導波管と、前記加熱室と前記導波管との接続部に設けられた開口部と、一部が電磁波吸収体となっている被加熱物を設置する被加熱物支持台とからなる高周波加熱装置。
IPC (3件):
H05B 6/74
, F24C 7/02 511
, F24C 7/02 551
FI (3件):
H05B 6/74 A
, F24C 7/02 511 B
, F24C 7/02 551 C
引用特許: