特許

J-GLOBAL ID：200903067159316265

電子ビーム露光装置および電子ビーム露光での近接効果補正方法

発明者： 小笠原 宗博 ,  高松 潤 ,  玉虫 秀一 ,  山崎 聡 ,  吉武 秀介 ,  小碇 創司 ,  五明 由夫
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-061185
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264411
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【目的】大電流化もしくは近接効果補正の容易化を図れ、描画時間の短縮化に寄与できる電子ビーム露光装置および電子ビーム露光での近接効果補正方法を提供する。【構成】電子ビームを成型アパーチャに通して得たパターン化ビームで露光する電子ビーム露光装置において、複数の電子源よりなる電子源装置101を備え、かつ複数の電子源から放出される電子ビーム104の成型アパーチャ102上での電流分布が、必要な一様性もしくは分布をもつために電子ビーム同士の重なりを設定する重なり設定手段を備えている。

請求項（抜粋）：

電子ビームを成型アパーチャに通して得たパターン化ビームで露光する電子ビーム露光装置において、複数の電子源よりなる電子源装置を備え、かつ上記複数の電子源から放出される電子ビームの上記成型アパーチャ上での電流分布が、必要な一様性もしくは分布をもつために電子ビーム同士の重なりを設定する重なり設定手段を備えていることを特徴とする電子ビーム露光装置。

FI (3件)：

H01L 21/30 541 R ,  H01L 21/30 541 M ,  H01L 21/30 541 W

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭54-061880
  
• 電子ビーム露光方法および露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-173388   出願人：富士通株式会社
• 特開昭62-061328
  
• 特開平1-117325