特許

J-GLOBAL ID：200903067167699432

投影光学系の収差測定方法

発明者： 貝瀬 浩二 ,  塚越 敏雄 ,  林 恒仁
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-350375
公開番号（公開出願番号）：特開平10-232185
出願日： 1997年12月19日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】 投影光学系等の像の非対称量を求める際に走査型電子顕微鏡等の複雑な顕微鏡を用いずに、高速且つ高精度に投影光学系等の収差量を計測する。【解決手段】 投影光学系の収差量を測定する収差測定方法であって、同一ライン幅のラインを有するラインアンドスペースパターンを施したマスクを該投影光学系の光路中に配置する工程と、レジストが塗布された基板を該投影光学系の投影位置に配置する工程と、前記ラインアンドスペースパターンを該投影光学系で所定の露光量をもって該基板のレジスト上に投影して露光する工程と、該露光された基板を現像する工程と、該現像する工程により基板上に形成されたレジストによるラインアンドスペースパターンの像において該パターンの像のピッチ方向の両端のパターンのライン幅差に基づいて収差量を求める工程とを備える。このようにすると、露光量の比やラインアンドスペースパターン全体の幅を調べることにより収差量を求めることができ、観察光学系で測定することができる。

請求項（抜粋）：

投影光学系の収差量を測定する収差測定方法であって、同一ライン幅のラインを有するラインアンドスペースパターンを施したマスクを該投影光学系の光路中に配置する工程と、レジストが塗布された基板を該投影光学系の投影位置に配置する工程と、前記ラインアンドスペースパターンを該投影光学系で所定の露光量をもって該基板のレジスト上に投影して露光する工程と、該露光された基板を現像する工程と、該現像する工程により基板上に形成されたレジストによるラインアンドスペースパターンの像において該パターンの像のピッチ方向の両端のパターンのライン幅差に基づいて収差量を求める工程とを備える、収差測定方法。

IPC (3件)：

G01M 11/02 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01M 11/02 B ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/30 513

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 投影光学系の検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-054213   出願人：株式会社ニコン