特許
J-GLOBAL ID：200903067167997450

高分子固体中における微小領域への有機分子注入法

発明者：
後藤 真宏

後藤 真宏 について

, 
河西 俊一

河西 俊一 について

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福村 裕史

福村 裕史 について


出願人/特許権者：
日本原子力研究所

日本原子力研究所 について


代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-058323
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256487
出願日： 1999年03月05日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 レーザー駆動分子注入法を使用して有機分子を高分子固体中における微小領域へ注入する方法である。【解決手段】 レーザー光を用いて有機分子を駆動し、ガラスマイクロピペット等の分子導入管先端部の微小開口(50〜5000nm)から有機分子を射出することにより、高分子固体中の極微小領域に位置選択的に有機分子を注入する。
請求項（抜粋）：
レーザー光を用いて有機分子を駆動し、分子導入管先端部の微小開口から有機分子を射出することにより、高分子固体中の極微小領域に位置選択的に有機分子を注入することを特徴とする、高分子固体中における微小領域への有機分子注入法。
IPC (5件)：
C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CET ,  C08J 7/00 CEY ,  A61M 37/00 ,  A61N 5/06
FI (5件)：
C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CET ,  C08J 7/00 CEY ,  A61M 37/00 ,  A61N 5/06 E
Fターム (16件)：
4C082RA02 ,  4C082RC09 ,  4C082RE02 ,  4C082RE16 ,  4C082RE17 ,  4C082RE21 ,  4C082RE36 ,  4C082RE38 ,  4C082RE58 ,  4C082RL02 ,  4F073AA21 ,  4F073BA18 ,  4F073BA19 ,  4F073CA46 ,  4F073CA53 ,  4F073HA10
引用特許：
出願人引用 (3件)

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