特許
J-GLOBAL ID：200903067174430007

カムシャフトの高周波焼入方法とその装置

発明者：
鈴木 惇郎

鈴木 惇郎 について

, 
片沼 秀明

片沼 秀明 について


出願人/特許権者：
電気興業株式会社

電気興業株式会社 について


代理人 (1件)： 奥山 尚一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-360390
公開番号（公開出願番号）：特開2002-167620
出願日： 2000年11月28日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：
【要約】【課題】 カムシャフトの焼入硬化層を必要とするカム部に、その形状に沿って焼入硬化層を形成する。【解決手段】 本発明の高周波焼入方法は、1つのカムブロックに複数個のカム部を有し、ジャーナル部を介して、複数のカムブロックよりなるカムシャフト1について、1つのカムブロックごとのカム部数と同数で、同巻数の環状加熱コイル21a,21b,21cを配置し、カムシャフト1の軸心を中心とする回転に同期させて、カム部のカムトップ部分11dとカムベース部分11eのそれぞれと、前記加熱コイルの内周面とのクリアランスTG,BGを等しく一定に保ちながら、前記加熱コイルを、追従機構33により追従させ、該加熱コイルに高周波電流を供給して、カム部を高周波加熱し、加熱後、空冷してから、冷却装置34により、カム部を冷却して、該カム部に焼入硬化層を形成する方法である。
請求項（抜粋）：
複数個のカム部を有する1つのカムブロックが、ジャーナル部を間に介して複数の前記カムブロックからなるカムシャフトを高周波焼入するに際し、a)1つの前記カムブロックの前記複数個のカム部に対応して、ほぼ直線上に配置される環状加熱コイルの、コイル環内を貫通して前記カムシャフトを配置するとともに、そのカムトップ部分をある一定方向に位置決めする搬入および位置決め工程と、b)前記カムシャフトを配置後、該カムシャフトを、その中心軸を中心に、ある一定回転で駆動させる回転駆動工程と、c)前記1つのカムブロックのカム部に対応して配置される前記環状加熱コイルを、前記カムシャフトの回転に同期して、前記カム部のカムトップ部分とカムベース部分のそれぞれと、該環状加熱コイルの内周面とのクリアランスの距離を等しくするように追従させながら、高周波電源から、高周波電流を該環状加熱コイルに供給して、前記1つのブロックの全カム部を、ある一定時間、同時に誘導加熱する加熱工程と、d)前記加熱工程終了後、加熱された前記カム部を、ある一定時間同時に空冷して、加熱温度を均一にする空冷工程と、e)前記空冷後、直ちに該カム部を、ある一定時間、同時に冷却して焼入処理する冷却工程とを、前記複数のカムブロックについて順次、繰り返して行い、次いで、f)前記焼入処理された該カムシャフトを、外部に搬出する搬出工程とを行うことを特徴とするカムシャフトの高周波焼入方法。
IPC (3件)：
C21D 9/30 ,  C21D 1/10 ,  H05B 6/10 331
FI (5件)：
C21D 9/30 A ,  C21D 9/30 B ,  C21D 1/10 R ,  C21D 1/10 P ,  H05B 6/10 331
Fターム (13件)：
3K059AA09 ,  3K059AB08 ,  3K059AD40 ,  4K042AA17 ,  4K042BA10 ,  4K042DA01 ,  4K042DB01 ,  4K042DD04 ,  4K042DE02 ,  4K042DE03 ,  4K042DF02 ,  4K042EA01 ,  4K042EA03
引用特許：
審査官引用 (2件)

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