特許
J-GLOBAL ID：200903067176696756
ケイ素及び酸素含有被覆の堆積方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-273541
公開番号（公開出願番号）：特開平6-240457
出願日： 1993年11月01日
公開日（公表日）： 1994年08月30日
要約：
【要約】【目的】 基材上にケイ素と酸素を含有する高品質の被覆を堆積させる方法を提供する。【構成】 被覆すべき基材を入れた、亜酸化窒素を含んでなる反応性の環境を有する堆積室に、水素シルセスキオキサンを含むガスを導入し、次いでこのガスの反応を誘起して被覆を形成することを含む。
請求項（抜粋）：
基材を入れた、亜酸化窒素を含んでなる反応性の環境を有する堆積室に、水素シルセスキオキサンを含むガスを導入し、そしてこのガスの反応を誘起して被覆を形成することを含む、基材上にケイ素と酸素を含有する被覆を堆積させる方法。
IPC (4件)：
C23C 16/22
, C23C 16/40
, C23C 16/42
, H01L 21/316
