特許

J-GLOBAL ID：200903067182202170

蒸着装置およびその運転方法

発明者： 川上 聡
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-268828
公開番号（公開出願番号）：特開2008-088483
出願日： 2006年09月29日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：

【課題】蒸着装置の処理室の内面などに堆積した堆積物を、処理室を開放することなく除去できるようにする。【解決手段】蒸着により被処理体Gを成膜処理する蒸着装置13であって、被処理体Gに成膜材料の蒸気を供給する蒸着ヘッド65と、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部70〜72と、クリーニングガスを発生させるクリーニングガス発生部86と、蒸気発生部70〜72から蒸着ヘッド65に成膜材料の蒸気を供給する蒸気供給配管81〜83と、クリーニングガス発生部86から蒸着ヘッド65にクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給配管87とを備え、蒸気供給配管81〜83とクリーニングガス供給配管87とに、開閉弁75〜78を設けた。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

蒸着により被処理体を成膜処理する蒸着装置であって、 被処理体に成膜材料の蒸気を供給する蒸着ヘッドと、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部と、クリーニングガスを発生させるクリーニングガス発生部と、前記蒸気発生部から前記蒸着ヘッドに成膜材料の蒸気を供給する蒸気供給配管と、前記クリーニングガス発生部から前記蒸着ヘッドにクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給配管とを備え、 前記蒸気供給配管と前記クリーニングガス供給配管とに、開閉弁を設けたことを特徴とする、蒸着装置。

IPC (4件)：

C23C 14/00 ,  C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (5件)：

C23C14/00 B ,  C23C14/24 T ,  C23C14/24 M ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (22件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BB03 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA09 ,  4K029DB06 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029FA09 ,  4K029HA00 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 有機膜真空蒸着用マスク再生方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-095809   出願人：キヤノン株式会社