特許
J-GLOBAL ID:200903067189398312
表面処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-355619
公開番号(公開出願番号):特開2002-159845
出願日: 2000年11月22日
公開日(公表日): 2002年06月04日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、微小空隙を有する被処理物の空隙内部を効率よく処理する表面処理方法に関するものである。【解決手段】 大気圧又はその近傍の圧力下で、少なくとも2つの口をもつ被処理物の1つの口から内部に放電用ガスを導入し、そして該放電用ガスを導入した口と異なる少なくとも1つの口から排気しながら、該放電用ガスを導入する口近傍と該放電用ガスを排気する口近傍にそれぞれ配置した、誘電体を表面に配設した電極間に通電して、前記被処理物内部に放電を発生させ、前記被処理物の内部表面を処理することを特徴とする表面処理方法。
請求項(抜粋):
大気圧又はその近傍の圧力下で、少なくとも2つの口をもつ被処理物の1つの口から内部に放電用ガスを導入し、そして該放電用ガスを導入した口と異なる少なくとも1つの口から排気しながら、該放電用ガスを導入する口近傍と該放電用ガスを排気する口近傍にそれぞれ配置した、誘電体を表面に配設した電極間に通電して、前記被処理物内部に放電を発生させ、前記被処理物の内部表面を処理することを特徴とする表面処理方法。
IPC (3件):
B01J 19/08
, B41J 2/16
, H05H 1/24
FI (3件):
B01J 19/08 H
, H05H 1/24
, B41J 3/04 103 H
Fターム (17件):
2C057AF93
, 2C057AP11
, 2C057AP59
, 4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075BA05
, 4G075BC01
, 4G075BC06
, 4G075CA15
, 4G075CA25
, 4G075CA47
, 4G075CA63
, 4G075EB41
, 4G075EC06
, 4G075EC21
, 4G075FC11
, 4G075FC15
引用特許: