特許

J-GLOBAL ID：200903067191132850

ブラシ回転式基板洗浄装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-039037
公開番号（公開出願番号）：特開平8-206617
出願日： 1995年02月03日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：

【要約】【目的】 基板に対する洗浄ブラシの押し込み量もしくは基板表面と洗浄ブラシ下端との隙間量の設定に当たってその基準となる洗浄ブラシの原点位置を、常に正確に、人の手を煩わせることなく自動的に、実際に基板の洗浄処理が行なわれる位置で確定できる装置を提供する。【構成】 スピンチャック50に保持された基板Wを静止させた状態で、回動アーム16に吊設された洗浄ブラシ12を回転させながら上方位置から下降させ、洗浄ブラシ下端を基板表面に接触させた際に、自由に回転可能な状態で静止中の回転軸110が、洗浄ブラシ下端が基板表面に接触することによって回転し始める際に、その回転開始時点を検知する回転検知機構を設け、この回転検知機構からの信号を受けて洗浄ブラシの原点位置を確定する制御回路を設けた。

請求項（抜粋）：

基板を上面側に保持する基板保持部と、この基板保持部の下面側中央部に上端部が連接されて、基板保持部を水平姿勢に保持する回転軸と、この回転軸を鉛直軸回りに回転自在に支持する軸受部と、前記回転軸を回転駆動させる基板回転駆動手段と、前記基板保持部に保持された基板の表面へ洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記基板保持部に保持された基板の表面に下端が接触又は近接した状態で基板表面を洗浄する洗浄ブラシと、この洗浄ブラシを懸吊状態に保持するブラシ保持アームと、このブラシ保持アームを昇降させるブラシ昇降手段と、前記洗浄ブラシを回転駆動させるブラシ回転駆動手段とを備えたブラシ回転式基板洗浄装置において、前記ブラシ回転駆動手段によって前記洗浄ブラシを回転駆動させながら、前記ブラシ昇降手段によって洗浄ブラシを上方位置から下降させて、洗浄ブラシ下端を前記基板保持部に保持された基板の表面に接近させ接触させるようにしたときに、自由に回転可能な状態で静止している前記回転軸、基板保持部及び基板が、洗浄ブラシ下端が基板表面に接触することによって回転し始める時点を検知する回転検知手段と、この回転検知手段からの信号を受けて前記洗浄ブラシの原点位置を確定する制御手段とを設けたことを特徴とするブラシ回転式基板洗浄装置。

IPC (3件)：

B08B 7/04 ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 容器の自動洗浄方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-118800   出願人：大正製薬株式会社, 鹿島建設株式会社, カジマメカトロエンジニアリング株式会社