特許
J-GLOBAL ID:200903067276991852

硬質炭素膜及びその製造方法並びに摺動部材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-361994
公開番号(公開出願番号):特開2007-162099
出願日: 2005年12月15日
公開日(公表日): 2007年06月28日
要約:
【課題】使用初期において、摺動により摩擦係数を速やかに低下させて、早期に低摩擦係数で安定させることのできる、なじみ性の高い硬質炭素膜を提供する。【解決手段】基材1上に中間層2を介して形成された硬質炭素膜3が、ダイヤモンドライクカーボン層6と、ダイヤモンドライクカーボン層6上に形成されたグラファイト粒子堆積層7とからなる。グラファイト粒子堆積層7は、ラマン分光分析によるラマンスペクトルをピーク分離して得られる、Dバンドを表すピークの面積強度ID とGバンドを表すピークの面積強度IG の比たる、ID /IG が1以下である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基材上に直接又は中間層を介して形成された硬質炭素膜であって、 前記基材上に直接又は中間層を介して形成されたダイヤモンドライクカーボン層と、該ダイヤモンドライクカーボン層上に形成されたグラファイト粒子堆積層とを含み、 前記グラファイト粒子堆積層は、ラマン分光分析によるラマンスペクトルをピーク分離して得られる、Dバンドを表すピークの面積強度ID とGバンドを表すピークの面積強度IG の比たる、ID /IG が1以下であることを特徴とする硬質炭素膜。
IPC (2件):
C23C 14/06 ,  B32B 9/00
FI (2件):
C23C14/06 F ,  B32B9/00 A
Fターム (23件):
4F100AD11B ,  4F100AD11C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA26 ,  4F100GB51 ,  4F100JK09 ,  4F100JK12B ,  4F100JK15 ,  4F100JK16 ,  4F100YY00 ,  4F100YY00B ,  4K029AA04 ,  4K029BA07 ,  4K029BA34 ,  4K029BB02 ,  4K029BB07 ,  4K029BC02 ,  4K029BD04 ,  4K029CA06 ,  4K029CA13 ,  4K029EA00
引用特許:
出願人引用 (1件)

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