反転磁気抵抗ヘッド及び製作方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-042920
公開番号（公開出願番号）：特開平7-262535
出願日： 1995年03月02日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】反転磁気抵抗ヘッド及び製作方法を提供する。【構成】反転磁気抵抗ヘッド50の製作方法にはライターの製作が含まれる。ライターはライトギャップ66、66A、磁極端72、及び頂部磁極/底部シールド24だけでなく銅コイル64及びポリマー58が充填された凹んだ底部磁極56を含んでいる。ポリマー58及びライトギャップ66、66Aの頂面は平坦化されてリーダーを配置することができる実質的に平滑な表面が提供される。リーダーはライターの上に作成され第1のリーダーギャップ78、磁気抵抗素子80、第2のリーダーギャップ84、及びシールド74を含んでいる。

請求項（抜粋）：

反転磁気抵抗ヘッドの製作方法であって、該方法は、ヘッドの空気軸受面から遠い位置で上部に凹みを有してベースコート内に底部磁極を作成し、底部磁極上の凹み内にポリマー絶縁体及び導電性コイルを配置し、凹みに配置されたポリマー絶縁体の頂面を平坦化し、ポリマーの頂面上にライトギャップを作成し、空気軸受面に近いライトギャップ内に非磁性高モーメント材の磁極端を形成し、ライトギャップの頂面を平坦化し、磁極端及びライトギャップ上に頂部磁極/底部シールドを作成し、頂部磁極/底部シールド上に第1のリーダーギャップを作成し、空気軸受面に近い第1のリーダーギャップ上に部分的に磁気抵抗素子を形成し、磁気抵抗素子を反転磁気抵抗ヘッドの外部領域へ電気的に接続する電気的コンタクトを第1のリーダーギャップ上に部分的に作成し、電気的コンタクト及び磁気抵抗素子上に第2のリーダーギャップを作成し、第2のリーダーギャップ上に頂部シールドを作成する、ステップからなる反転磁気抵抗ヘッドの製作方法。

IPC (2件)：

G11B 5/39 , G11B 5/31

引用特許：

審査官引用 (6件)

薄膜磁気ヘツド
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-226526 出願人：テイーデイーケイ株式会社
特開平4-341910
特開平1-096814

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