特許
J-GLOBAL ID：200903067374962984
サスペンションアセンブリ用貴金属導電性リードの作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤田 アキラ
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-513445
公開番号（公開出願番号）：特表2007-537562
出願日： 2005年05月13日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：
第1のエッチングプロセスによってエッチングできるばね金属層上の導体を有するタイプの一体型リードヘッドサスペンションたわみ部の製造方法である。本方法には、ばね金属層の主面上において、誘電体材料の1つまたは複数のフライングリード領域にギャップを有するパターン層を形成することと、誘電体材料上、および各フライングリード領域のギャップにおける露出したばね金属の上を始めとして、たわみ部上に1つまたは複数の導電性リードを形成することと、が含まれる。少なくとも導電性リードのフライングリード部は、第1のエッチングプロセスに耐性がある導電性材料から形成される。本方法にはまた、ばね金属層のフライングリード領域をエッチングし、フライングリード領域におけるばね金属層の一部を除去し、かつ導電性リードのフライングリード部を露出することが含まれる。
請求項（抜粋）：
磁気ヘッドを受け入れるように構成されたタイプで、かつ第1のエッチングプロセスによってエッチングできるばね金属層上に導体を有するタイプの一体型リードヘッドサスペンションたわみ部を製造する方法において、
(1)前記ばね金属層の主面に誘電体材料のパターン層を形成するステップであって、前記パターン層が、前記ばね金属層が露出されている1つまたは複数のフライングリード領域においてギャップを有するステップと、
(2)前記たわみ部上に1つまたは複数の導電性リードを形成するステップであって、
前記誘電体材料層上に主リード部を形成することと、
前記1つまたは複数のフライングリード領域のそれぞれでのギャップの上にフライングリード部を形成することと、
を含み、
前記導電性リードの少なくとも前記フライングリード部が、前記第1のエッチングプロセスに耐性がある導電性材料から形成されるステップと、
(3)前記ばね金属層のフライングリード領域をエッチングして、前記フライングリード領域の前記ばね金属層の一部を除去し、かつ前記導電性リードの前記フライングリード部を露出させるステップと、
を備えて成る、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
5D042TA07
, 5D059AA01
, 5D059BA01
, 5D059DA31
, 5D059DA36
, 5D059EA03
出願人引用 (2件)
-
米国特許第5,666,717号明細書
-
米国特許第6,399,899号明細書
審査官引用 (3件)
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