特許
J-GLOBAL ID：200903067409306767

周期パターンおよびずれを制御するための技術

発明者：
アブドゥルハリム,イブラヒム

アブドゥルハリム,イブラヒム について

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アデル,マイク

アデル,マイク について

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フライドマン,マイケル

フライドマン,マイケル について

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ファエヤーマン,マイケル

ファエヤーマン,マイケル について


出願人/特許権者：
ケーエルエー-テンカー コーポレイション

ケーエルエー-テンカー コーポレイション について


代理人 (1件)： 井ノ口 壽
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-581921
公開番号（公開出願番号）：特表2004-533114
出願日： 2002年04月09日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
二つのオーバーレイ周期構造もしくはインターレース状の周期構造(13,15)の間のずれの誤差を測定する方法とシステムを提供する。オーバーレイ周期構造もしくはインターレース状の周期構造は、光源(101)からの入射光によって照射され、オーバーレイ周期構造もしくはインターレース状の周期構造による入射光の回折光を検出器(123,125)で検出して、出力信号を生成する。オーバーレイ周期構造もしくはインターレース状の周期構造の間のずれは、出力信号から判定することができるようになる。【選択図】図10a
請求項（抜粋）：
デバイスの二つの層の間の相対的な位置を測定するためのターゲットにおいて、 デバイスの第1の層の上に関連して設ける第1の周期構造と、 デバイスの第2の層の上に関連して設ける第2の周期構造であって、前記第2の周期構造は、前記第1の周期構造に重なりあっているか、もしくは前記第1の周期構造とインターレース状に形成されている第2の周期構造と、 を備えることを特徴とするターゲット。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F9/00
FI (4件)：
H01L21/30 502M ,  G01B11/00 G ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 502V
Fターム (28件)：
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065CC03 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065CC32 ,  2F065DD03 ,  2F065FF48 ,  2F065FF49 ,  2F065HH03 ,  2F065HH09 ,  2F065HH12 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL04 ,  2F065LL33 ,  2F065LL34 ,  2F065LL42 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ25 ,  2F065UU07
引用特許：
審査官引用 (3件)

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