特許

J-GLOBAL ID：200903067439392811

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐藤 和史 ,  前盛 諭 ,  中緒 卓 ,  新田 和行
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-074097
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267283
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】 製造ロットに起因する品質のバラツキを容易に調整することができ、かつユーザーのニーズに広く対応可能な物性をもつ化学増幅型ポジ型レジストを提供する。【解決手段】 (A)酸解離性基で保護された水酸基をもつヒドロキシスチレン単位を含む重合体、及び(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する化学増幅型レジスト組成物において、(A)成分として酸解離性基は同一であるが、その保護率が異なる2種以上の重合体からなり、それらの重合体中の最大重量平均分子量(Mwmax)と最小重量平均分子量(Mwmin)との比(Mwmax/Mwmin)が1.5未満である混合物を用いたポジ型レジスト組成物とする。

請求項（抜粋）：

(A)酸解離性基で保護された水酸基をもつヒドロキシスチレン単位を含む重合体、及び(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する化学増幅型レジスト組成物において、(A)成分として酸解離性基は同一であるが、その保護率が異なる2種以上の重合体からなり、それらの重合体中の最大重量平均分子量(Mwmax)と最小重量平均分子量(Mwmin)との比(Mwmax/Mwmin)が1.5未満である混合物を用いたことを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB51 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-060955   出願人：日本電信電話株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-175638   出願人：東京応化工業株式会社