特許

J-GLOBAL ID：200903067443115172

露光装置

発明者： 宮島 義一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-422085
公開番号（公開出願番号）：特開2005-183656
出願日： 2003年12月19日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】 基板吸着保持手段への液浸液の進入リークに伴う基板吸着保持不良あるいは液浸液面低下に伴う液浸露光不良等の問題を解決する。【解決手段】 投影光学系と基板との間の液体層を介して原版のパターンを基板に露光する液浸露光装置を、基板保持部材を回動または移動させることにより、基板上に付着した、または基板上に満たされた液浸液を除去する手段を備えたものとする。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光し、投影光学系と基板間の露光光透過空間の少なくとも一部を液体層を介して露光する液浸露光装置において、 該基板保持部材を回転あるいは移動駆動する手段を設け、該基板保持部材に回転あるいは移動動作を与えることにより、基板上に付着もしくは満たされた液浸液を、回転除去あるいは移動除去することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521

Fターム (3件)：

5F046BA05 ,  5F046CC08 ,  5F046DA07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-339510   出願人：キヤノン株式会社