塗布層欠陥検査光選択方法、塗布層欠陥検査方法、塗布層欠陥検査装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-298572
公開番号（公開出願番号）：特開平10-142162
出願日： 1996年11月11日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】【課題】塗布層によらず、塗布層に光学検査用の染料を含有させなくても、塗布層の有無だけでなく濃淡の差、すなわち滑らかな層厚の変化をも検出しうる検査光を選択しうる方法を提供することを目的とする。【解決手段】支持体上に形成された塗布層の欠陥を光学的に検査する際の検査光を選択する塗布層欠陥検査光選択方法において、前記支持体のみに照射した場合の透過率と、前記塗布層が形成された支持体に照射した場合の透過率とが異なる光か、又は、前記支持体のみに照射した場合の反射率と、前記塗布層が形成された支持体に照射した場合の反射率とが異なる光を検査光として選択することを特徴とする塗布層欠陥検査光選択方法。

請求項（抜粋）：

支持体上に形成された塗布層の欠陥を光学的に検査する際の検査光を選択する塗布層欠陥検査光選択方法において、前記支持体のみに照射した場合の透過率と、前記塗布層が形成された支持体に照射した場合の透過率とが異なる光か、又は、前記支持体のみに照射した場合の反射率と、前記塗布層が形成された支持体に照射した場合の反射率とが異なる光を検査光として選択することを特徴とする塗布層欠陥検査光選択方法。

IPC (5件)：

G01N 21/89 , B05D 3/00 , G01N 21/27 , G01N 21/59 , G03C 1/74

FI (5件)：

G01N 21/89 A , B05D 3/00 D , G01N 21/27 B , G01N 21/59 M , G03C 1/74

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-214423
欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-059666 出願人：株式会社リコー
特開昭64-088239

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