特許
J-GLOBAL ID：200903067459135734
電子線露光用アパチャ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-026201
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209038
出願日： 1997年01月24日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】電子線露光用アパチャにおいて任意のマスクバイアスを得るアパチャ製造方法の提供。【解決手段】Siエッチング後の断面形状が、エッチング条件に依存することに着目し、電子線露光用アパチャの開口形成時にエッチング条件を調整し、テーパー角を制御することにより、任意のマスクバイアスを得る。
請求項（抜粋）：
任意の図形形状に開口したアパチャにより形成されるビームを用いる部分一括描画法に用いられるアパチャの製造方法において、前記アパチャの開口寸法を開口断面形状により制御する、ことを特徴とするアパチャの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 541 R
, G03F 1/16 B
