特許
J-GLOBAL ID:200903067519432725

金属細線包接薄膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 長谷川 芳樹 ,  塩田 辰也 ,  寺崎 史朗 ,  長濱 範明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-264731
公開番号(公開出願番号):特開2004-099385
出願日: 2002年09月10日
公開日(公表日): 2004年04月02日
要約:
【課題】十分なアスペクト比を有し、配列が均一な金属細線を備える金属細線包接薄膜及びその製造方法を提供すること。【解決手段】膜厚が1μm以下であり、かつ中心細孔直径が1〜50nmであるメソポーラスシリカ薄膜と、前記メソポーラスシリカ薄膜の細孔内に形成されている平均直径が1〜50nmであり、かつ平均アスペクト比が5以上である金属細線と、を備えることを特徴とする金属細線包接薄膜。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
膜厚が1μm以下であり、かつ中心細孔直径が1〜50nmであるメソポーラスシリカ薄膜と、 前記メソポーラスシリカ薄膜の細孔内に形成されている平均直径が1〜50nmであり、かつ平均アスペクト比が5以上である金属細線と、 を備えることを特徴とする金属細線包接薄膜。
IPC (4件):
C30B29/66 ,  B82B1/00 ,  C01B33/12 ,  H01L29/06
FI (4件):
C30B29/66 ,  B82B1/00 ,  C01B33/12 C ,  H01L29/06 601L
Fターム (18件):
4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072FF06 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ14 ,  4G072KK17 ,  4G072MM01 ,  4G072MM31 ,  4G072NN21 ,  4G072UU15 ,  4G072UU30 ,  4G077AA03 ,  4G077BA04 ,  4G077CB06 ,  4G077HA20 ,  4K020AA10 ,  4K020AC00 ,  4K020BB32

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