特許
J-GLOBAL ID:200903067598465501
多元化合物作製装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-084318
公開番号(公開出願番号):特開2003-277914
出願日: 2002年03月25日
公開日(公表日): 2003年10月02日
要約:
【要約】【課題】 材料開発の高速化が実現可能で且つ組成比を連続的に変化させることのできる多元化合物作製装置を提供する。【解決手段】 下方から材料蒸発機構(1)、マスク移動機構(2)、基板加熱装置(3)を備えた基板回転機構(4)の順にそれらが配置されており、材料蒸発機構(1)は水平方向に回転する複数種類の材料(6)に対し、1種類の材料(6)ごとにレーザ(7)を照射してその材料(6)を蒸発させるものであり、マスク移動機構(2)は基板回転機構(4)と材料蒸発機構(1)の中間部に水平に配置された水平面の中間部に開口部(10)が形成された平板形状の移動マスク(9)を有し、その移動マスク(9)を水平方向において一次元方向に往復運動させるものであり、基板回転機構(4)は基板加熱装置(3)を備え、水平に配置された円板形状の基板(8)を加熱しながら水平方向に回転させるものである多元化合物作製装置とする。
請求項(抜粋):
基板上に3種類以上の材料の各々の組成比を連続的に変化させて気相成膜することで多元化合物を作製する装置であって、下方から材料蒸発機構、マスク移動機構、基板加熱装置を備えた基板回転機構の順にそれらが配置されており、材料蒸発機構は水平方向に回転する複数種類の材料に対し、1種類の材料ごとにレーザを照射してその材料を蒸発させる機構であり、マスク移動機構は、基板回転機構と材料蒸発機構の中間部に水平に配置された平板形状で水平面の中間部に開口部が形成された移動マスクを有し、その移動マスクを水平方向において一次元方向に往復運動させる機構であり、基板回転機構は基板加熱装置を備え、水平に配置された円板形状の基板を加熱しながら水平方向に回転させる機構であることを特徴とする多元化合物作製装置。
IPC (3件):
C23C 14/24
, C23C 14/28
, H01L 21/203
FI (3件):
C23C 14/24 G
, C23C 14/28
, H01L 21/203 Z
Fターム (19件):
4K029AA06
, 4K029BA43
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029DB05
, 4K029DB20
, 4K029HA01
, 4K029JA02
, 5F103AA01
, 5F103BB08
, 5F103BB16
, 5F103BB23
, 5F103BB32
, 5F103BB38
, 5F103BB41
, 5F103DD27
, 5F103GG06
, 5F103HH03
, 5F103RR04
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