特許

J-GLOBAL ID：200903067617740381

基板洗浄方法および基板洗浄装置

発明者： 西村 讓一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-031727
公開番号（公開出願番号）：特開平10-229063
出願日： 1997年02月17日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：

【要約】【課題】 個々の装置ごとに押圧荷重の調節や押圧荷重の検知を正確に行う。【解決手段】 基板洗浄装置に組み込まれる基板保持機構に保持される基板表面と同一レベルでの、基板洗浄装置に組み込まれた洗浄具からの実押圧荷重と、基板洗浄装置に組み込まれた圧力センサ31からの検知値との対応関係を、異なる2点以上の実押圧荷重について調べて検知情報記憶メモリ40に記憶する。基板洗浄では、圧力センサ31から検知値が得られると、検知情報記憶メモリ40に記憶した2点以上についての実押圧荷重と圧力センサ31からの検知値との対応関係に基づき決められた関係式を用いて、得られた検知値に対応する押圧荷重を求めて、その検知情報を基にコントローラ34はリリーフ弁25を制御して、指定された押圧荷重で洗浄具を基板に作用させて基板を洗浄する。

請求項（抜粋）：

基板に対する洗浄具の押圧荷重を任意に指定して、押圧手段を制御して、指定された押圧荷重で洗浄具を基板に作用させて基板を洗浄する基板洗浄方法において、基板洗浄装置に組み込まれる基板保持手段に保持される基板の洗浄面と同一レベルでの、基板洗浄装置に組み込まれた前記洗浄具からの実押圧荷重と、基板洗浄装置に組み込まれた前記押圧手段の制御値との対応関係を、異なる2点以上の実押圧荷重について調べる準備工程と、指定された押圧荷重に対する前記押圧手段の制御値を、前記準備工程で調べた2点以上についての前記実押圧荷重と前記押圧手段の制御値との対応関係に基づき決められた関係式を用いて求め、その制御値で前記押圧手段を制御して、その制御値に応じた押圧荷重で前記洗浄具を基板に作用させて基板を洗浄する基板洗浄工程と、を備えたことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 341 S

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 回転式基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-102973   出願人：大日本スクリーン製造株式会社