特許
J-GLOBAL ID：200903067685898856

排気ガス処理方法及び処理装置

発明者：
大久保 雅章

大久保 雅章 について

, 
山本 俊昭

山本 俊昭 について

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黒木 智之

黒木 智之 について


出願人/特許権者：
財団法人大阪産業振興機構

財団法人大阪産業振興機構 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004014737
公開番号（公開出願番号）：WO2005-037412
出願日： 2004年10月06日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
排気ガス中の被処理成分を吸着剤(5)に吸着させる工程と、その後、酸素濃度10vol%以下で純度90vol%以上の窒素ガスを前記吸着剤(5)に流入させる工程と、前記吸着剤(5)に非熱プラズマを印加する工程(6,7,8)を含む排気ガス処理方法であって、前記排気ガス中の被処理成分を吸着剤(5)に吸着後、前記窒素ガスを吸着剤(5)に流し、放電を発生させ前記窒素ガスの非熱プラズマを吸着剤に印加し、被処理成分の脱着処理及び吸着剤の再生を行う。これにより、窒素ガスを用いて電離しプラズマ化することにより活性度を高め、この性質を有効に利用し、吸着、窒素を主成分とするプラズマ脱着と窒素プラズマ処理を組み合わせ、酸素を含む排気ガス中の被処理成分除去を有効に行う。
請求項（抜粋）：
排気ガス中の被処理成分を吸着剤に吸着させる工程と、 その後、酸素濃度10vol%以下で純度90vol%以上の窒素ガスを前記吸着剤に流入させる工程と、 前記吸着剤に非熱プラズマを印加する工程を含む排気ガス処理方法であって、 前記排気ガス中の被処理成分を吸着剤に吸着後、前記窒素ガスを吸着剤に流し、放電を発生させ前記窒素ガスの非熱プラズマを吸着剤に印加し、被処理成分の脱着処理及び吸着剤の再生を行うことを特徴とする排気ガス処理方法。
IPC (12件)：
B01D 53/56 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/72 ,  B01D 53/70 ,  B01D 53/62 ,  B01J 20/18 ,  B01J 20/34 ,  B01J 19/08 ,  F01N 3/02 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/24
FI (14件)：
B01D53/34 129A ,  B01D53/34 123D ,  B01D53/34 120D ,  B01D53/34 134E ,  B01D53/34 135A ,  B01D53/34 135Z ,  B01J20/18 A ,  B01J20/34 E ,  B01J19/08 E ,  F01N3/02 301E ,  F01N3/02 301F ,  F01N3/08 A ,  F01N3/08 C ,  F01N3/24 N
Fターム (48件)：
3G090AA01 ,  3G090AA06 ,  3G090EA02 ,  3G091AA18 ,  3G091AB09 ,  3G091AB13 ,  3G091AB14 ,  3G091BA11 ,  3G091BA14 ,  3G091BA39 ,  3G091CA26 ,  3G091CA27 ,  3G091HA08 ,  3G091HA14 ,  4D002AA02 ,  4D002AA08 ,  4D002AA09 ,  4D002AA12 ,  4D002AA21 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002CA07 ,  4D002DA41 ,  4D002DA45 ,  4D002DA46 ,  4D002DA70 ,  4D002EA07 ,  4D002GA01 ,  4D002GB12 ,  4G066AA61B ,  4G066BA23 ,  4G066CA23 ,  4G066CA28 ,  4G066CA35 ,  4G066CA43 ,  4G066CA51 ,  4G066DA02 ,  4G066GA18 ,  4G075AA03 ,  4G075AA22 ,  4G075AA37 ,  4G075BA06 ,  4G075BB04 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB21 ,  4G075EB41 ,  4G075FB04
引用特許：
出願人引用 (3件)

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