ケイ素系高分子化合物の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-021449
公開番号（公開出願番号）：特開平11-209474
出願日： 1998年01月19日
公開日（公表日）： 1999年08月03日
要約：

【要約】【解決手段】下記式(1) (XnR13-nSi)m-R2-SiR33-pXp (1)(式中、R1及びR3は水素原子、置換もしくは非置換の一価炭化水素基又はアルコキシ基、R2は(m+1)価の置換もしくは非置換の炭化水素基、Xはハロゲン原子を示し、mは0,1又は2、nは0,1,2又は3、pは1,2又は3である。)で示されるハロゲノシランの1種又は2種以上のハロゲノシラン混合物を金属ナトリウムの存在下に重合反応させて、ケイ素系高分子化合物を製造する方法において、X/Naのモル比が1.0より大きい最終の仕込み比率条件で上記式(1)のハロゲノシランの重合反応を行うことを特徴とするケイ素系高分子化合物の製造方法。【効果】本発明によれば、反応生成物中に残存ナトリウムがないためにアルコールを用いたクエンチを行わなくても安全に後処理をすることが可能である。

請求項（抜粋）：

下記式(1) (XnR13-nSi)m-R2-SiR33-pXp (1)(式中、R1及びR3は水素原子、置換もしくは非置換の一価炭化水素基又はアルコキシ基、R2は(m+1)価の置換もしくは非置換の炭化水素基、Xはハロゲン原子を示し、mは0,1又は2、nは0,1,2又は3、pは1,2又は3である。)で示されるハロゲノシランの1種又は2種以上のハロゲノシラン混合物を金属ナトリウムの存在下に重合反応させて、ケイ素系高分子化合物を製造する方法において、X/Naのモル比が1.0より大きい最終の仕込み比率条件で上記式(1)のハロゲノシランの重合反応を行うことを特徴とするケイ素系高分子化合物の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-258834
フツ化有機ケイ素高分子化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-198303 出願人：日本電信電話株式会社
導電性重合体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-044923 出願人：信越化学工業株式会社

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