特許
J-GLOBAL ID：200903067771662024

基板処理装置

発明者：
佐藤 裕輔

佐藤 裕輔 について

, 
大嶺 俊光

大嶺 俊光 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-248434
公開番号（公開出願番号）：特開平8-088180
出願日： 1994年09月17日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【目的】原料ガスの利用効率を向上させることができ、しかも処理条件を変化させた場合でも良好な処理特性を発揮できる基板処理装置を提供する。【構成】処理容器1内の基板ホルダ20に保持されている基板Sに対しガスを供給して所定の処理を行う基板処理装置において、基板ホルダ20に対向して設けられた整流板12と、この整流板12の中心部を通して原料ガスAを基板Sに向けて流す原料ガス供給手段と、整流板12の周辺部を通してパージガスBを流すパージガス供給手段とを備えている。
請求項（抜粋）：
処理容器内の基板ホルダに保持されている基板に対しガスを供給して所定の処理を行う基板処理装置において、前記基板ホルダに対向して設けられた整流板と、この整流板の中心部を通して処理用のガスを前記基板に向けて流す処理用ガス供給手段と、前記整流板の周辺部を通してパージ用のガスを流すパージガス供給手段とを具備してなることを特徴とする基板処理装置。
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM