プラズマCVD装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安田敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-180686
公開番号（公開出願番号）：特開2002-371365
出願日： 2001年06月14日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】【課題】環状導波管の温度を低温に維持するようにしたプラズマCVD装置を提供すること。【解決手段】環状の導波管5の内側に配置された反応室2内に、該導波管5の内周部に設けられたアンテナ20からマイクロ波電力を供給し、前記反応室2内部にプラズマを生じせしめ、気相成長合成法で成膜するプラズマCVD装置において、前記環状導波管5と反応室2との間に冷却装置27が配置されている。

請求項（抜粋）：

環状の導波管の内側に配置された反応室内に、該導波管の内周部に設けられたアンテナからマイクロ波電力を供給し、前記反応室内部にプラズマを生じせしめ、気相成長合成法で成膜するプラズマCVD装置において、前記環状導波管と反応室との間に冷却装置が配置されていることを特徴とするプラズマCVD装置。

IPC (3件)：

C23C 16/511 , B01J 19/08 , H05H 1/46

FI (3件)：

C23C 16/511 , B01J 19/08 H , H05H 1/46 B

Fターム (22件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA61 , 4G075BC04 , 4G075CA03 , 4G075CA26 , 4G075CA47 , 4G075DA01 , 4G075EB27 , 4G075FA01 , 4G075FB06 , 4G075FC06 , 4K030AA03 , 4K030AA04 , 4K030AA14 , 4K030BA45 , 4K030CA06 , 4K030CA15 , 4K030FA01 , 4K030JA04 , 4K030KA30 , 4K030LA11

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭63-139029
特開昭52-066355
特開昭63-139029

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