特許
J-GLOBAL ID:200903067866511643

光ビーム整形装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 西教 圭一郎 ,  杉山 毅至
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-524530
公開番号(公開出願番号):特表2009-503596
出願日: 2007年06月04日
公開日(公表日): 2009年01月29日
要約:
作業面において特に線状強度分布(28)を生成するための装置であって、マルチモード・レーザビーム(8)を発することができるレーザ光源(1)であって、レーザビーム(8)の拡散方向(z)に対して垂直な第1の方向(x)に関する回折係数(Mx2)が1よりも大きいだけでなく、拡散方向(z)に対して垂直な第2の方向(y)に関する回折係数(My2)も1よりも大きいレーザ光源(1)を有する装置において、ビーム変換手段(3)であって、レーザビーム(8)またはレーザビーム(8)の部分ビーム(14)をその第1方向(x)に関する回折係数(Mx2)が増大する、またその第2方向(y)に関する回折係数(My2)が減少するように変換できるべく該装置に配置されるビーム変換手段(3)をさらに有することを特徴とする装置。
請求項(抜粋):
光ビームを整形するための、特に、作業面において特に線状強度分布(28)を生成するための装置であって、マルチモード・レーザビーム(8)を発することができるレーザ光源(1)であって、レーザビーム(8)の拡散方向(z)に対して垂直な第1の方向(x)について回折係数(Mx2)が1よりも大きいだけでなく、拡散方向(z)に対して垂直な第2の方向(y)に関する回折係数(My2)も1よりも大きいレーザ光源(1)を有する装置において、ビーム変換手段(3)であって、レーザビーム(8)またはレーザビーム(8)の部分ビーム(14)をその第1方向(x)についての回折係数(Mx2)が増大する、またその第2方向(y)についての回折係数(My2)が減少するように変換できるべく該装置に配置されるビーム変換手段(3)をさらに有することを特徴とする装置。
IPC (3件):
G02B 27/09 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/06
FI (3件):
G02B27/00 E ,  G02B3/00 A ,  G02B3/06
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 光学的光束変換装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-308546   出願人:ヴィタリーリゾチェンコ, ヨアヒムヘンツェ
  • 面照明装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2005-206237   出願人:ヘンツェ-リソチェンコパテントフェルヴァルトゥングスゲーエムベーハーウントコー.カーゲー
  • 光学的光線変換システムおよび装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-318587   出願人:ヘンツェ-リソチェンコパテントフェルヴァルトゥングスゲーエムベーハーウントコー.カーゲー
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審査官引用 (4件)
  • 光学的光束変換装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-308546   出願人:ヴィタリーリゾチェンコ, ヨアヒムヘンツェ
  • 面照明装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2005-206237   出願人:ヘンツェ-リソチェンコパテントフェルヴァルトゥングスゲーエムベーハーウントコー.カーゲー
  • 光学的光線変換システムおよび装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-318587   出願人:ヘンツェ-リソチェンコパテントフェルヴァルトゥングスゲーエムベーハーウントコー.カーゲー
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