特許
J-GLOBAL ID：200903067867329539
アクティブマトリクス基板とその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武田 元敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-122590
公開番号（公開出願番号）：特開平6-332008
出願日： 1993年05月25日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 液晶と組み合わせて表示デバイスを構成する配線群上に陽極酸化膜を有するアクティブマトリクス基板の液晶表示デバイス完成後、基板端より浸入する水分によって配線を形成する金属が腐食が進行しない、また基板割断時に発生する静電気がアクティブ素子に侵入しないようにする。【構成】 陽極酸化をするために短絡された構成の配線群において、基板割断の予定切断線16より内側にゲート配線分離部分12を有し、陽極酸化以降のエッチング工程で該配線を形成する金属を除去することによって配線群を分離する。
請求項（抜粋）：
基板の一主面上に短絡状態で形成された配線群の一部を陽極酸化して形成された絶縁膜を有するアクティブマトリクス基板を割断する予定線より内側において、前記短絡状態の配線群が分離されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
IPC (3件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/133 550
, G02F 1/1343
