特許
J-GLOBAL ID:200903067898116770

電子ビーム描画装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 春日 讓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-009159
公開番号(公開出願番号):特開2007-194293
出願日: 2006年01月17日
公開日(公表日): 2007年08月02日
要約:
【課題】空描画を行なうことなく試料台の最適な移動速度を算出し試料台速度を最適制御が可能で描画処理時間を短縮可能な電子ビーム描画装置を実現する。【解決手段】描画データを図形分解部3に出力しショット可能な大きさに分解して描画データバッファ4に格納する。分解部3が出力したサブフィールド内の電子ビームの照射回数をカウンタ7で計数し試料台速度演算部17に出力する。バッファ4に格納されたデータは補正演算部5で読み出し試料台制御部14へ現在描画中のサブフィールド座標を出力する。バッファ4は1サブフィールド分以上の描画データを記憶し分解部3の動作と演算部5の動作を1サブフィールド分以上位相差を持たせ演算部17に現在描画中サブフィールドの一つ以上先の描画データ数を出力する。試料台制御部14はカウンタ7の出力サブフィールド毎のデータ数16により試料台13の最適移動速度を算出し試料台移動速度を制御する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
描画パターンを小領域に分割し、試料を搭載する試料台を移動して、電子ビームを試料に照射し、上記分割した小領域毎に描画を行う電子ビーム描画装置において、 上記小領域に分割された描画データをショット可能な大きさに分解する分解手段と、 上記小領域毎の電子ビームの照射回数を計数する計数手段と、 上記分解手段が出力する描画データを上記小領域1つ分以上蓄積するデータ蓄積手段と、 上記データ蓄積手段が出力する描画データを読み出し、この読み出した描画データに補正演算を行う補正演算手段と、 上記照射回数が計数された小領域毎の描画データ数に基づいて、最適な試料台の移動速度を算出する速度算出手段と、 上記試料台の移動速度を制御する試料台移動制御手段と、 を備え、上記試料台移動制御手段は、描画動作の過程で計数された描画データ数に基づいて、最適な試料台移動速度を算出し、この算出した最適試料台移動速度に従って試料台の移動速度を制御して描画を行うことを特徴とする電子ビーム描画装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  H01J 37/305
FI (3件):
H01L21/30 541J ,  H01L21/30 541L ,  H01J37/305 B
Fターム (5件):
5C034BB10 ,  5F056CA01 ,  5F056CA21 ,  5F056CB23 ,  5F056EA14
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 電子線描画装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-059913   出願人:株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社

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