特許

J-GLOBAL ID：200903067988273590

ホツトプレート

発明者： 川崎 卓 ,  築地原 雅夫 ,  池田 孝
出願人/特許権者： 電気化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-313295
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129210
出願日： 1991年11月01日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】 シリコンウェーハ等の試料の高精度かつ均一な高温加熱を可能としたホットプレートの提供。【構成】 熱分解窒化ほう素からなる基材(1)の一方の面に静電チャック用電極(2)が、他方の面に加熱用電極(3)がいずれも熱分解黒鉛で形成されてなり、しかも静電チャック用電極の給電部(4)と加熱用電極の給電部(5)を除く部分に熱分解窒化ほう素被覆膜(6)が施されてなることを特徴とするホットプレート。

請求項（抜粋）：

熱分解窒化ほう素からなる基材(1)の一方の面に静電チャック用電極(2)が、他方の面に加熱用電極(3)がいずれも熱分解黒鉛で形成されてなり、しかも静電チャック用電極の給電部(4)と加熱用電極の給電部(5)を除く部分に熱分解窒化ほう素被覆膜(6)が施されてなることを特徴とするホットプレート。

IPC (5件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324 ,  H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板の温度制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-247898   出願人：株式会社東芝
• 特開平4-358074