特許
J-GLOBAL ID:200903067990319106

インプリント用透明モールド構造体、及び該インプリント用透明モールド構造体を用いたインプリント方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-088503
公開番号(公開出願番号):特開2009-241308
出願日: 2008年03月28日
公開日(公表日): 2009年10月22日
要約:
【課題】 表面における光反射が防止されるインプリント用透明モールド構造体等の提供。【解決手段】 本発明のインプリント用透明モールド構造体1は、透明基板2と、前記透明基板2の一方の表面5に配設される複数個の凸部3と、前記透明基板2の他方の表面7に形成される反射防止層4と、を備える。該反射防止層4は、例えば、MgF2などからなる。該インプリント用透明モールド構造体1は、波長200nm〜500nmの光に対する全光線透過率が85%以上であることが好ましい。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
透明基板と、 前記透明基板の一方の表面に配設される複数個の凸部と、 前記透明基板の他方の表面に形成される反射防止層と、を備えることを特徴とするインプリント用透明モールド構造体。
IPC (3件):
B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  B29C 33/38
FI (3件):
B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D ,  B29C33/38
Fターム (25件):
4F202AA44 ,  4F202AC03 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH38 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AJ11 ,  4F202CA19 ,  4F202CB29 ,  4F202CD24 ,  4F202CD30 ,  4F202CK11 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AH75 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (2件)

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