トンネル内の汚染防止方法及びその洗浄装置及び洗浄方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：山口朔生 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-302327
公開番号（公開出願番号）：特開2000-129641
出願日： 1998年10月23日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：

【要約】【課題】汚染物質の浸透を阻止し、洗浄場所の用途を中断することなく、散水するだけで汚染物質を洗浄・除去することを可能とする、トンネル内の汚染防止方法及びこのトンネル内の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】トンネルの内壁面又はトンネル反射板に、塗膜面に対する水の静的接触角が60度以下となる低汚染型塗膜を形成したことを特徴とするトンネル内の汚染防止方法及び該塗膜上に散水装置を配設した洗浄装置及び洗浄方法を提供する。

請求項（抜粋）：