特許
J-GLOBAL ID:200903068144288610

照明装置及びそれを用いた投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-108632
公開番号(公開出願番号):特開平5-283317
出願日: 1992年03月31日
公開日(公表日): 1993年10月29日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な照明装置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【構成】 楕円鏡2の第1焦点近傍に発光部1を配置し、該発光部からの光束で該楕円鏡を介して該楕円鏡の第2焦点近傍に該発光部の像を形成し、該発光部の像からの光束で複数の微小レンズを2次元的に配列したオプティカルインテグレータ10を介して被照射面を照明する際、該楕円鏡とオプティカルインテグレータとの間に入射光束を所定方向に偏向させる光路中より挿脱可能な光学素子を配置して該オプティカルインテグレータの入射面の光強度分布を変更するようにしたこと。
請求項(抜粋):
楕円鏡の第1焦点近傍に発光部を配置し、該発光部からの光束で該楕円鏡を介して該楕円鏡の第2焦点近傍に該発光部の像を形成し、該発光部の像からの光束で複数の微小レンズを2次元的に配列したオプティカルインテグレータを介して被照射面を照明する際、該楕円鏡とオプティカルインテグレータとの間に入射光束を所定方向に偏向させる光路中より挿脱可能な光学素子を配置して該オプティカルインテグレータの入射面の光強度分布を変更するようにしたことを特徴とする照明装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207
FI (2件):
H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 311 L
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 投影型露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-027107   出願人:株式会社ニコン

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