特許
J-GLOBAL ID:200903068159136921
プラズマ処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-297652
公開番号(公開出願番号):特開平6-124898
出願日: 1992年10月09日
公開日(公表日): 1994年05月06日
要約:
【要約】【目的】 均一な処理が可能なプラズマ処理装置を提案する。【構成】 減圧状態に保持可能な反応容器と、前記反応容器に気体を供給する手段と一対の対向する電力供給用電極対と前記対向する電極と平行でない位置に少なくとも1つの電極を有するプラズマ処理装置。
請求項(抜粋):
減圧状態に保持可能な反応容器と、前記反応容器に気体を供給する手段と一対の対向する電力供給用電極と前記対向する電極と平行でない位置に少なくとも1つの電極を有するプラズマ処理装置。
引用特許:
審査官引用 (3件)
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プラズマ気相成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-238529
出願人:日本電気株式会社
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特開平4-056215
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特開平2-179878
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