特許
J-GLOBAL ID：200903068174418763

有機エレクトロルミネッセンス装置およびその製造方法

発明者：
立木 洋幸

立木 洋幸 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-310004
公開番号（公開出願番号）：特開2009-134984
出願日： 2007年11月30日
公開日（公表日）： 2009年06月18日
要約：
【課題】第1基板において有機EL上に封止膜を形成するとともに、第1基板に第2基板を接着剤で貼り合せた場合でも、有機EL素子の水分劣化を確実に防止可能な有機EL装置、およびその製造方法を提供すること。【解決手段】有機EL装置100では、第2電極層83の上層に画素領域10aよりも広い領域にわたって封止膜60を形成しておき、この状態で、第1基板10と第2基板20とを接着剤層91で貼り合せる。その際、第2基板20には、画素領域10aの周りにスペーサー用突起93が形成されているので、スペーサー用突起93が第1基板10に当接する。このため、第2基板20は封止膜60に当接せず、スペーサー用突起93は、封止膜60において画素領域10aの近傍領域10bを覆っている部分に当接しない。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板に対向配置された第2基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、 前記第1基板には、前記第2電極層の上層に前記画素領域よりも広い領域にわたって封止膜が形成されており、 前記第1基板と前記第2基板とは、前記第1基板と前記第2基板との間で少なくとも前記画素領域よりも広い領域にわたって配置された接着剤層によって貼り合わされているとともに、前記画素領域の周りには、前記第2基板から突出して前記第1基板に当接するスペーサー用突起が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
IPC (3件)：
H05B 33/04 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/12
FI (3件)：
H05B33/04 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/12 E
Fターム (14件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC23 ,  3K107CC27 ,  3K107CC45 ,  3K107DD03 ,  3K107EE22 ,  3K107EE42 ,  3K107EE48 ,  3K107EE49 ,  3K107EE50 ,  3K107EE54 ,  3K107EE55 ,  3K107GG28
引用特許：
出願人引用 (1件)

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