パターン形成異常検出方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮井暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-311628
公開番号（公開出願番号）：特開平10-154647
出願日： 1996年11月22日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】プラスデフォーカス側での露光装置のフォーカス位置ずれによるパターン形成異常を検出できるパターン形成異常検出方法を得る。【解決手段】レジストパターンエッジの傾斜角とフォーカス位置の関係を求めておき、縮小投影露光装置により半導体基板10上に形成されたレジストパターン11のテーパ角θを算出し、テーパ角θに基づきレジストパターンエッジの傾斜角とフォーカス位置の関係より縮小投影露光装置のフォーカス位置ずれを測定するものである。

請求項（抜粋）：

レジストパターンエッジの傾斜角とフォーカス位置の関係を求めておく工程と、縮小投影露光装置により半導体基板上に形成されたレジストパターンのテーパ角を算出する工程と、前記テーパ角に基づき前記レジストパターンエッジの傾斜角とフォーカス位置の関係より前記縮小投影露光装置のフォーカス位置ずれを測定する工程とを含むパターン形成異常検出方法。

FI (2件)：

H01L 21/30 516 Z , H01L 21/30 516 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

結像特性の測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-183797 出願人：株式会社ニコン

前のページに戻る