走査型電子顕微鏡用撮像レシピ作成装置及びその方法並びに半導体パターンの形状評価装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-180457
公開番号（公開出願番号）：特開2007-003212
出願日： 2005年06月21日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：

【課題】 SEM装置等において、撮像レシピを自動作成するための選択ルールを教示により最適化できるようにした撮像レシピ作成装置及びその方法を提供することにある。【解決手段】走査型電子顕微鏡を用いて半導体パターンをSEM観察するための撮像レシピを作成する撮像レシピ作成装置であって、半導体パターンのレイアウト情報を低倍視野で入力して記憶したデータベース805と、該データベースに記憶した半導体パターンのレイアウト情報を基に、教示により最適化された撮像ポイントを選択する選択ルールを含む自動作成アルゴリズムに従って前記撮像レシピを自動作成する撮像レシピ作成部806、809とを備えたことを特徴とする。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

走査型電子顕微鏡を用いて半導体パターンをSEM観察するための撮像レシピを作成する撮像レシピ作成装置であって、前記半導体パターンのレイアウト情報を低倍視野で入力して記憶したデータベースと、該データベースに記憶した半導体パターンのレイアウト情報を基に自動作成アルゴリズムに従って前記撮像レシピを自動作成する撮像レシピ作成部とを備えたことを特徴とする走査型電子顕微鏡用撮像レシピ作成装置。

IPC (5件)：

G01B 15/04 , G01N 23/225 , H01J 37/28 , H01J 37/22 , H01L 21/66

FI (5件)：

G01B15/04 , G01N23/225 , H01J37/28 B , H01J37/22 502H , H01L21/66 J

Fターム (35件)：

2F067AA13 , 2F067AA21 , 2F067BB04 , 2F067CC17 , 2F067HH06 , 2F067HH13 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067KK08 , 2F067LL17 , 2F067PP12 , 2F067QQ02 , 2F067RR12 , 2F067RR30 , 2F067RR35 , 2F067SS02 , 2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001BA14 , 2G001CA03 , 2G001FA01 , 2G001GA01 , 2G001GA06 , 2G001HA13 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 4M106BA02 , 4M106CA39 , 4M106CA50 , 4M106DJ20 , 4M106DJ23 , 5C033UU05 , 5C033UU06 , 5C033UU08

引用特許：

出願人引用 (2件)

半導体検査システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-132668 出願人：株式会社日立製作所
荷電粒子ビーム装置用カラム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-115454 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

審査官引用 (9件)

半導体検査システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-132668 出願人：株式会社日立製作所
特開昭61-074082
特開昭61-074082

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