特許

J-GLOBAL ID：200903068361891383

抗菌作用増強法

発明者： 山口 靖英 ,  山崎 正敏 ,  藤嶋 昭 ,  橋本 和仁
出願人/特許権者： 三井金属鉱業株式会社 ,  藤嶋 昭 ,  橋本 和仁
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-046895
公開番号（公開出願番号）：特開平8-243551
出願日： 1995年03月07日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：

【要約】【構成】 光溶解性のある半導体を水性液中又は空気中に配置し、これに紫外線を含む光を照射することからなる抗菌作用増強法。【効果】 本発明により、光溶解性のある半導体からの金属イオンの溶出量を増大させて抗菌作用を増強することができ、特に紫外線を含む光の照射時間、照射強度を制御することにより抗菌作用を所望程度に増強することができる。

請求項（抜粋）：

光溶解性のある半導体を水性液中又は空気中に配置し、これに紫外線を含む光を照射することを特徴とする抗菌作用増強法。

IPC (8件)：

C02F 1/30 ,  A61L 2/16 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 560

FI (11件)：

C02F 1/30 ,  A61L 2/16 Z ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 510 D ,  C02F 1/50 510 E ,  C02F 1/50 520 A ,  C02F 1/50 520 J ,  C02F 1/50 520 Z ,  C02F 1/50 531 U ,  C02F 1/50 540 F ,  C02F 1/50 560 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光触媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-146616   出願人：日本電池株式会社