特許
J-GLOBAL ID:200903068376694525

偏光ビームスプリッタを作製する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  島田 哲郎 ,  伊坪 公一 ,  榎原 正巳 ,  小林 龍
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-524018
公開番号(公開出願番号):特表2009-503584
出願日: 2006年07月24日
公開日(公表日): 2009年01月29日
要約:
本開示は、ポリマー偏光ビームスプリッタを作製する方法を対象としている。代表的な方法には、第1の面と第2の面を備えている偏光フィルムを成型型内に担持させること、前記偏光フィルムの第1の面に隣接させてポリマー材を成型型の中に注入すること、第1のポリマー材を固化させて第1のプリズムを形成させること、及び、第2のプリズムを偏光フィルムの第2の面に固定することが含まれている。別の代表的な方法には、偏光ビームスプリッタの構成要素を射出成形すること、及び、第1のポリマー材のガラス転移温度よりも約20°C低い温度を超えない温度まで前記第1の構成要素を熱処理することが含まれている。
請求項(抜粋):
偏光ビームスプリッタを作製する方法であって、 第1の面と第2の面を備えている偏光フィルムを成型型内に担持させる工程と、 前記偏光フィルムの第1の面に隣接させてポリマー材を前記成型型の中に注入する工程と、 前記第1のポリマー材を固化させて第1のプリズムを形成させる工程と、及び、 第2のプリズムを前記偏光フィルムの第2の面に固定する工程とを、含む方法。
IPC (5件):
G02B 5/30 ,  G02B 5/04 ,  G03B 21/14 ,  G02B 27/28 ,  B29D 11/00
FI (5件):
G02B5/30 ,  G02B5/04 D ,  G03B21/14 Z ,  G02B27/28 Z ,  B29D11/00
Fターム (35件):
2H042CA10 ,  2H042CA14 ,  2H042CA16 ,  2H042CA17 ,  2H149AA17 ,  2H149AB26 ,  2H149BA03 ,  2H149BB28 ,  2H149FA04Z ,  2H149FA08Z ,  2H149FA13Z ,  2H199AA04 ,  2H199AA14 ,  2H199AA16 ,  2H199AA28 ,  2H199AA64 ,  2H199AA73 ,  2K103AA05 ,  2K103AA14 ,  2K103AB10 ,  2K103BC15 ,  2K103CA26 ,  2K103CA75 ,  2K103CA76 ,  4F213AA12 ,  4F213AA20 ,  4F213AA28 ,  4F213AH76 ,  4F213AR06 ,  4F213WA05 ,  4F213WA39 ,  4F213WA56 ,  4F213WA83 ,  4F213WB01 ,  4F213WB11
引用特許:
審査官引用 (5件)
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