特許
J-GLOBAL ID:200903068376694525
偏光ビームスプリッタを作製する方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
青木 篤
, 鶴田 準一
, 島田 哲郎
, 伊坪 公一
, 榎原 正巳
, 小林 龍
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-524018
公開番号(公開出願番号):特表2009-503584
出願日: 2006年07月24日
公開日(公表日): 2009年01月29日
要約:
本開示は、ポリマー偏光ビームスプリッタを作製する方法を対象としている。代表的な方法には、第1の面と第2の面を備えている偏光フィルムを成型型内に担持させること、前記偏光フィルムの第1の面に隣接させてポリマー材を成型型の中に注入すること、第1のポリマー材を固化させて第1のプリズムを形成させること、及び、第2のプリズムを偏光フィルムの第2の面に固定することが含まれている。別の代表的な方法には、偏光ビームスプリッタの構成要素を射出成形すること、及び、第1のポリマー材のガラス転移温度よりも約20°C低い温度を超えない温度まで前記第1の構成要素を熱処理することが含まれている。
請求項(抜粋):
偏光ビームスプリッタを作製する方法であって、
第1の面と第2の面を備えている偏光フィルムを成型型内に担持させる工程と、
前記偏光フィルムの第1の面に隣接させてポリマー材を前記成型型の中に注入する工程と、
前記第1のポリマー材を固化させて第1のプリズムを形成させる工程と、及び、
第2のプリズムを前記偏光フィルムの第2の面に固定する工程とを、含む方法。
IPC (5件):
G02B 5/30
, G02B 5/04
, G03B 21/14
, G02B 27/28
, B29D 11/00
FI (5件):
G02B5/30
, G02B5/04 D
, G03B21/14 Z
, G02B27/28 Z
, B29D11/00
Fターム (35件):
2H042CA10
, 2H042CA14
, 2H042CA16
, 2H042CA17
, 2H149AA17
, 2H149AB26
, 2H149BA03
, 2H149BB28
, 2H149FA04Z
, 2H149FA08Z
, 2H149FA13Z
, 2H199AA04
, 2H199AA14
, 2H199AA16
, 2H199AA28
, 2H199AA64
, 2H199AA73
, 2K103AA05
, 2K103AA14
, 2K103AB10
, 2K103BC15
, 2K103CA26
, 2K103CA75
, 2K103CA76
, 4F213AA12
, 4F213AA20
, 4F213AA28
, 4F213AH76
, 4F213AR06
, 4F213WA05
, 4F213WA39
, 4F213WA56
, 4F213WA83
, 4F213WB01
, 4F213WB11
引用特許:
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