特許
J-GLOBAL ID:200903068384994058
反射防止フィルム及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉田 勝広 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-012461
公開番号(公開出願番号):特開2000-214302
出願日: 1999年01月20日
公開日(公表日): 2000年08月04日
要約:
【要約】【課題】 視覚情報を各種ディスプレイの透明基板を通して、あるいはミラーからの像を透明基板を通して観察する場合に、これら透明基板の表面が光の反射を防止して、視覚情報等を明瞭に判読できる反射防止フィルムを提供すること。【解決手段】 透明基材フィルム上に、ハードコート層を介して、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層がこの順序で形成されてなる反射防止フィルムであって、、中屈折率層はバインダーと屈折率が1.5以上の超微粒子とからなる層であり、高屈折率層は金属あるいは金属の酸化物、窒化物、もしくは硫化物からなる可視光領域に吸収を持ち、導電性を有する層であり、低屈折率層はSiO2よりなる層であり、かつ、上記各層の厚みが、それぞれ30〜100nm、2〜10nm及び50〜110nmであることを特徴とする反射防止フィルム。
請求項(抜粋):
透明基材フィルム上に、ハードコート層を介して、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層がこの順序で形成されてなる反射防止フィルムであって、低屈折率層はSiO2よりなる層であり、中屈折率層はバインダーと屈折率が1.5以上の超微粒子とからなる層であり、高屈折率層は金属あるいは金属の酸化物、窒化物、もしくは硫化物からなる可視光領域に吸収を持ち、導電性を有する層であり、かつ、これらの層の厚みは低屈折率層が50〜110nm、中屈折率層が30〜100nm及び高屈折率層が2〜10nmであることを特徴とする反射防止フィルム。
IPC (2件):
G02B 1/11
, B32B 7/02 103
FI (2件):
G02B 1/10 A
, B32B 7/02 103
Fターム (55件):
2K009AA06
, 2K009AA15
, 2K009CC02
, 2K009CC03
, 2K009CC09
, 2K009CC14
, 2K009DD01
, 2K009DD04
, 4F100AA09D
, 4F100AA12D
, 4F100AA17D
, 4F100AA20C
, 4F100AA20E
, 4F100AA33C
, 4F100AB01D
, 4F100AB12D
, 4F100AB13D
, 4F100AB16D
, 4F100AB24D
, 4F100AK01C
, 4F100AK42
, 4F100AR00A
, 4F100AR00B
, 4F100AR00C
, 4F100AR00D
, 4F100AR00E
, 4F100AS00C
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10E
, 4F100BA13
, 4F100CB00
, 4F100DE01C
, 4F100EH661
, 4F100EH662
, 4F100EJ421
, 4F100EJ521
, 4F100EJ65B
, 4F100GB90
, 4F100JA20C
, 4F100JA20D
, 4F100JA20E
, 4F100JB13C
, 4F100JG01
, 4F100JG01D
, 4F100JK06
, 4F100JK12B
, 4F100JN01A
, 4F100JN18C
, 4F100JN18D
, 4F100JN18E
, 4F100JN30
, 4F100YY00C
, 4F100YY00E
引用特許:
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