特許
J-GLOBAL ID:200903068517102252

リソグラフィ投影装置およびそれを使用したデバイスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-385644
公開番号(公開出願番号):特開2001-223159
出願日: 2000年12月19日
公開日(公表日): 2001年08月17日
要約:
【要約】【課題】 マスクまたは基板を載せるテーブルを複数有するリソグラフィ投影装置に於いて、異なる作業区域間でこれらのテーブルを交換する際に、制御ソフトウェアエラー、電源故障等の不測の事態でも、テーブル間の衝突を避けるための手段を備える装置を提供すること。【解決手段】 この衝突防止手段は、基板テーブルWTa、WTbが作業区域20から30へ、またはその逆に動く経路に沿って物理的障害物、190、170、180、200を迷路状に設けて適正な経路以外は通行できなくする。この交換中、各テーブルを、それぞれ、シャトルCS1、CS2に結合し、これらのシャトルを鎖等で連結して両者が同期してしか動けなくし、それによって衝突を避ける。
請求項(抜粋):
リソグラフィ投影装置であって:放射線の投影ビームを供給するための照明システム;所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターニングすることが出来るパターニング手段を保持するための第1物体テーブル;各々基板を保持するための第2および第3可動物体テーブルで、少なくとも第1および第2作業区域を含む運動の共通範囲に亘って動き得るテーブル;パターン化したビームを基板の目標部分上に結像するための投影システム、および前記第2および第3物体テーブルを動かすためのテーブル位置決め手段;を含み:前記第2および第3物体テーブル間の衝突を避けるために前記第2および第3物体テーブルの少なくとも一つの運動を物理的に制限する衝突防止手段を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00
FI (3件):
G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 B
引用特許:
審査官引用 (2件)

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