投影露光装置及び投影露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-332845
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163098
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】スループットを向上させつつ、2つのステージ同士が接触(干渉)したり、一方のステージ動作が他方のステージ動作に影響を及ぼさないようにする。【解決手段】 2つのウエハステージWS1、WS2がベース盤12上を独立して2次元移動可能とし、アライメント系24aの下にあるウエハステージWS1上でウエハ交換とアライメントとを行なっている間に、投影光学系PLの下のウエハステージWS2上でウエハW2の露光が行なわれる。主制御装置90は、ウエハステージWS1、WS2上で行われる動作のうち、影響を及ぼし合う動作同士を同期して行い、影響を及ぼさない動作同士を同期して行うようにする。また、主制御装置90は、干渉条件に基づいて干渉計システムにより両ステージの位置を把握しながら位置制御を行うことにより、ステージ同士の干渉を防止する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、感応基板を保持して2次元平面内を移動可能な第1基板ステージと;感応基板を保持して前記第1基板ステージと同一平面内を前記第1基板ステージとは独立に移動可能な第2基板ステージと;前記投影光学系とは別に設けられ、前記基板ステージ上又は前記基板ステージに保持された感応基板上のマークを検出するアライメント系と;前記第1基板ステージ及び前記第2基板ステージのうちの一方のステージ上の感応基板に対し前記アライメント系によるマーク検出動作を行うのに並行して、他方のステージ上の感応基板に対し露光を行う際に、前記一方のステージのマーク検出動作のうちで前記他方のステージに影響を与える動作と前記他方のステージの露光動作のうちで前記一方のステージに影響を与える動作とを同期して行うように2つのステージを制御するとともに、前記第1基板ステージ及び前記第2基板ステージの各々の動作のうちで互いに影響を与えない動作同士を同期して行うように前記2つの基板ステージの動作を制御する制御手段と;を有することを特徴とする投影露光装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 516 B , H01L 21/30 525 X

引用特許：

出願人引用 (11件)

ステップ・アンド・リピート装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-112936 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
複合位置決め装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-070070 出願人：キヤノン株式会社
位置決め装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-337492 出願人：キヤノン株式会社

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審査官引用 (12件)

ステップ・アンド・リピート装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-112936 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
複合位置決め装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-070070 出願人：キヤノン株式会社
位置決め装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-337492 出願人：キヤノン株式会社

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