基板の処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-117536
公開番号（公開出願番号）：特開平10-291151
出願日： 1997年04月21日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】専有面積を小さくしたコンパクトな構成で、しかも基板を反転することなく、基板の研磨及び洗浄といった一連の処理を施すことができるようにする。【解決手段】支持台16と、下面に加工具36を取り付け可能な円板状の工具盤20と、前記支持台16の下方において前記工具盤20を並進円運動可能に支持する支持部18と、回転自在で軸心O1 と偏心した位置で前記工具盤20と回転自在に連結された駆動軸28とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

下面に工具取付面を有する工具盤と、該工具盤をほぼ水平面内で並進円運動可能に支持する支持部と、前記工具盤をほぼ水平面内で並進円運動させる駆動部と、前記工具盤の工具取付面に対向して基板を保持する基板保持部とを有することを特徴とする基板の処理装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-207589 出願人：アミテック株式会社
特開平4-146072

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