特許

J-GLOBAL ID：200903068562918808

NDフィルタ、NDフィルタの製造方法、および光量絞り装置

発明者： 鈴木 一雄 ,  吉川 宗利 ,  若林 孝幸 ,  内山 真志
出願人/特許権者： キヤノン電子株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-288980
公開番号（公開出願番号）：特開2007-101709
出願日： 2005年09月30日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】基体の反りやクラック等の発生を抑制することが可能となるNDフィルタ、NDフィルタの製造方法、および光量絞り装置を提供する。【解決手段】透過光量を調節するNDフィルタ11であって、該NDフィルタは樹脂による基体上に積層膜を備え、該基体に連続または不連状のリブ13が形成された構成とする。このリブ13は、基体の一方の面に形成された凸部と、該凸部に対応させて前記基体の他方の面に形成された凹部によって構成することができる。また、基体に塗布あるいは印刷により形成された凸部によって構成することができる。また、NDフィルタの縁部を折り曲げて形成された凸部によって構成することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

透過光量を調節するNDフィルタであって、該NDフィルタは樹脂による基体上に積層膜を備え、該基体に連続または不連状のリブが形成されていることを特徴とするNDフィルタ。

IPC (2件)：

G02B 5/00 ,  G03B 9/02

FI (2件)：

G02B5/00 A ,  G03B9/02 A

Fターム (6件)：

2H042AA08 ,  2H042AA13 ,  2H042AA22 ,  2H080AA20 ,  2H080AA31 ,  2H080DD00

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 光量絞り装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-289741   出願人：キヤノン電子株式会社
• NDフィルタの製造方法と絞り装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-338595   出願人：キヤノン電子株式会社
• 光学絞り用NDフィルターの製造方法と絞り装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-250240   出願人：キヤノン電子株式会社, 三井東圧化学株式会社
• NDフィルタ、NDフィルタの製造方法、及びこれらのNDフィルタを有する光量絞り装置、カメラ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-186387   出願人：キヤノン電子株式会社