基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：五十嵐孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-351771
公開番号（公開出願番号）：特開平9-181143
出願日： 1995年12月26日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】オンライン処理とオフライン処理の切り替えによるスループットの低下を低減する。【解決手段】基板処理装置の複数のインデクサステージの少なくとも1つを、外部の管理ステーションとの通信を行ないつつ管理ステーションの管理下で基板の処理を実行するオンライン処理モードに設定し、複数のインデクサステージの他の少なくとも1つを、管理ステーションとの通信を行なわずに基板の処理を実行するオフライン処理モードに設定する。そして、オンライン処理モードに設定されたインデクサステージに載置された第1のカセット内の基板の処理と、オフライン処理モードに設定されたインデクサステージに載置された第2のカセット内の基板の処理とを並行して実行させる。

請求項（抜粋）：

処理対象の基板を予め設定された搬送経路に従って複数の処理ユニットに順次搬送しつつ処理する基板処理装置であって、外部の管理ステーションとの通信を行なうための通信手段と、前記管理ステーションとの通信を行ないつつ、前記管理ステーションの管理下で基板の処理を実行するオンライン処理実行手段と、前記管理ステーションとの通信を行なわずに基板の処理を実行するオフライン処理実行手段と、それぞれ複数の基板を収納する複数のカセットを載置するための複数のインデクサステージと、前記複数のインデクサステージの少なくとも1つをオンライン処理モードに設定し、前記複数のインデクサステージの他の少なくとも1つをオフライン処理モードに設定する設定手段と、前記オンライン処理モードに設定されたインデクサステージに載置された第1のカセット内の基板の処理と、前記オフライン処理モードに設定されたインデクサステージに載置された第2のカセット内の基板の処理とを、前記基板処理装置内で並行して実行させる制御手段と、を備える基板処理装置。

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平3-274746
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-071036 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-113612

審査官引用 (3件)

特開平3-274746
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-071036 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-113612

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