特許
J-GLOBAL ID：200903068625329158
リン酸イオン除去用ハイドロタルサイト様化合物及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-337386
公開番号（公開出願番号）：特開2004-167408
出願日： 2002年11月21日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】溶解ダスト由来の金属成分を含有するリン酸イオン除去用ハイドロタルサイト様化合物(層状複水酸化物)と、その製造方法を提供する。【解決手段】鋳鉄用溶解炉から廃出された溶解ダストを塩酸で処理して酸可溶の金属成分(鉄及び亜鉛を含む)を抽出し、その抽出液のpHを調整して静置する。静置により沈殿した沈殿物を濾過、水洗、乾燥して生成物を得る。得られた生成物は、ハイドロタルサイト様化合物に特有のXRDパターンを示し、リン酸イオンとの間で優れたイオン交換性能を発揮して水溶液中からリン酸イオンを選択的に除去する。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
ホスト層としての水酸化物層を構成する金属の一部又は全部が、鋳鉄用溶解炉から廃出された溶解ダストに由来する金属であることを特徴とするリン酸イオン除去用ハイドロタルサイト様化合物。
IPC (4件)：
B01J41/10
, C01B25/234
, C02F1/42
, C02F1/58
B01J41/10
, C01B25/234 Z
, C02F1/42 Z
, C02F1/58 R
4D025AA01
, 4D025AB15
, 4D025BA02
, 4D025BA22
, 4D038AA02
, 4D038AB44
