気相反応装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梶山佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-300287
公開番号（公開出願番号）：特開平8-139038
出願日： 1994年11月09日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：

【要約】【目的】温度センサのCA線への高周波の流れ込みを遮断し、膜質均一性の劣化を防止する気相反応装置を提供する。【構成】反応炉を有し、該反応炉内に、高周波電源に接続された上部電極と、上面に基板が載置されるサセプタを有し、プラズマにより成膜処理を行う気相反応装置において、前記サセプタにはクロメルアルメル線からなる温度センサが接続されており、該クロメルアルメル線はサセプタの接続点から外部の温度表示装置の接続点までの途中に、少なくとも一巻のコイル状捲回部分を設ける。

請求項（抜粋）：

反応炉を有し、該反応炉内に、高周波電源に接続された上部電極と、上面に基板が載置されるサセプタを有し、プラズマにより成膜処理を行う気相反応装置において、前記サセプタにはクロメルアルメル線からなる温度センサが接続されており、該クロメルアルメル線はサセプタの接続点から外部の温度表示装置の接続点までの途中に、少なくとも一巻のコイル状捲回部分を有することを特徴とする気相反応装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H01L 35/00 , H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭61-114520
プラズマ処理装置のウェーハ保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-128308 出願人：国際電気株式会社
特開昭63-227013

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